Lithographie Euv

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La Chine ambitionne de construire son propre équivalent d'ASML

La Chine investit massivement pour développer une machine de lithographie extrême ultraviolet (EUV) autonome. Ce projet vise à contourner les sanctions occidentales limitant l'accès aux technologies néerlandaises d'ASML. Un succès pourrait redéfinir l'équilibre technologique mondial d'ici 2030.

28 juin · 1 source