La Chine investit massivement pour développer une machine de lithographie extrême ultraviolet (EUV) autonome. Ce projet vise à contourner les sanctions occidentales limitant l'accès aux technologies néerlandaises d'ASML. Un succès pourrait redéfinir l'équilibre technologique mondial d'ici 2030.
Factae établit le fait ; chaque récit est à un clic, chez sa rédaction.
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